三星电子、SK海力士拟向ASML EUV光刻机投资超10万亿韩元

2026年11月10日，IT之家报道称，三星电子与SK海力士正竞相采购ASML的EUV光刻机，相关投资额均在10~20万亿韩元区间。报道提及，SK海力士今年3月确认将于2026~2027两年向ASML采购11.95万亿韩元的EUV光刻机，其龙仁Y1晶圆厂预计2027年2月启用首个无尘室；三星电子承诺2028年将High NA EUV用于DRAM量产，其平泽P5预计2027年中导入设备。目前进展仅停留在采购与投资计划层面，尚无两家企业正式签约或设备交付的进一步消息。

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