消息称三星电子、SK 海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元

这条消息给出三星与SK海力士EUV采购的金额区间和具体时间表：龙仁Y1无尘室2027年2月启用、平泽P5 2027年中导入设备、High NA EUV 2028年用于DRAM量产。关注存储扩产与半导体设备交期的人，可据此判断产能上线节奏和提前下单的动因；但投资额来自韩媒转述，尚无两家公司正式确认。