上海微电子新一代前道光刻机平台模型亮相

2026年11月8日，IT之家报道，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）在第九届进博会上展出自研新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。报道称，该模型采用透明剖视设计，展示光学光路与机电系统布局；平台适配I-line、KrF两类技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台等核心部件均实现全链条自主可控。报道还称，国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，多台设备在国内头部逻辑、存储量产线累计流片超千万片，设备有效运行率超92%。上述性能与运行数据均出自该报道，尚无其他来源独立印证。目前事件进展为模型展出及厂商披露相关能力，后续量产或客户验证情况未见报道。

AI 根据报道生成 · 51 分钟前更新

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。