上海微电子新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相进博会

上海微电子（SMEE）在第九届进博会上展出自研新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，采用透明剖视设计展示光学光路与机电系统布局。该平台适配 I-line、KrF 两类技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台等核心部件均实现全链条自主可控。国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，多台设备在国内头部逻辑、存储量产线累计流片超千万片，设备有效运行率超 92%。