VEDA：方差爆炸扩散与退火生成3D分子

2026年10月15日，arXiv Computer Vision 报道了 Peining Zhang 等人提出的 VEDA 3D 分子生成框架。该工作将方差爆炸（VE）扩散与退火结合，构建统一的 SE(3) 等变框架，用于高效生成构象准确的 3D 分子结构。报道称，在 QM9 和 GEOM-DRUGS 数据集上，VEDA 仅用 100 步采样即达到与流模型相当的采样效率，并取得最优的价键稳定性与有效性；其生成结构在 GFN2-xTB 优化中的弛豫能量中位数仅 1.72 kcal/mol，远低于基线 SemlaFlow 的 32.3 kcal/mol。目前该事件仅有这一篇主报道，尚无后续跟进报道，上述效率与能量指标均为该报道所引述的结果。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。