超越显式意图：通过人机共创发现并塑造艺术意图

研究提出一种超越显式意图表达的人机共创范式，通过扩大模型探索让艺术家在观察、比较与选择中识别此前未言明的偏好。系统将艺术家的策展判断融入强化学习，按对生成轨迹的偏好分配不同学习强度，使模型逐步适配个人审美，形成“探索—识别—塑造—再探索”的循环。三项用户研究分别考察潜在偏好发现、个性化偏好对齐与模糊创意意图的外化。