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华为黄宇:韬定律最大挑战在于 EDA 工具

AI 导读

华为半导体 EDA 首席科学家黄宇在 2026 湾芯展上表示,韬定律最大挑战在于 EDA 工具,工艺、工程和系统设计挑战同样存在。韬(τ)定律分四层:器件层优化晶体管结构与互联方式,链路层为最大创新点,芯片层做软硬件协同设计,系统层涉及超级节点与机柜互联。

来源:IT之家 · ithome.com